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氧化鈰拋光粉生產工藝

來源:包頭市佳鑫納米材料有限責任公司 | 發布時間:2017/2/14 | 瀏覽次數:

 氧化鈰拋光粉主要成份為二氧化鈰(CeO2),其次分別為氧化鑭(La2O3)、氧化鐠(Pr2O3)、氧氟化鑭(LaOF),此外還含有微量的氧化硅、氧化鋁和氧化鈣。

 氧化鈰拋光粉生產工藝:

☆高鈰系稀土拋光粉的生產

    以稀土混合物分離后的氧化鈰為原料,以物理化學方法加工成硬度大、粒度均勻、細小,呈面心立方晶體的粉末產品。

      其主要工藝過程為 : 原料 → 高溫 → 煅燒 → 水淬 → 水力分級 → 過濾 → 烘干 → 高鈰稀土拋光粉產品。主要設備有 : 煅燒爐,水淬槽,分級器,過濾機,烘干箱。 主要指標 : 產品中w(REO)=99% ,w(CeO2)=99%; 稀土回收率約95%。該產品適用于高速拋光。這種高鈰拋光粉**早代替了古典拋光的氧化鐵粉(紅粉)。

☆中鈰系稀土拋光粉的制備

     用混合稀土氫氧化物(w(REO)=65% ,w(CeO2)≥48%) 為原料,以化學方法預處理得稀土鹽溶液,加入中間體( 沉淀劑) 使轉化成 w(CeO2)=80% ~ 85% 的中級鈰系稀土拋光粉產品。其主要工藝過程為:

     原料 → 氧化 → 優溶 → 過濾 → 酸溶 → 沉淀 → 洗滌過濾 → 高溫煅燒 → 細磨篩分 → 中級鈰系 稀土拋光粉產品。

  主要設備有 : 氧化槽,優溶槽,酸溶槽,沉淀槽,過濾機,煅燒爐,細磨篩分機及包裝機。

      主要指標 : 產品中 w(REO)=90% , w(CeO2) =80% ~ 85% ; 稀土催化材料回收率約 95% ; 平均粒度 0.4 微米 ~ 1.3微米 。該產品適用于高速拋光,比****鈰稀土拋光粉進行高速拋光的性能更為優良。

☆低鈰系稀土拋光粉的制備

以少銪氯化稀土 (w(REO)≥45% ,w(CeO2)≥48%) 為原料,以合成中間體( 沉淀劑) 進行復鹽沉淀等處理,可制備低級鈰系稀土拋光粉產品。

    其主要工藝過程為 : 原料 → 溶解 → 復鹽沉淀 → 過濾洗滌 → 高溫煅燒 → 粉碎 → 細磨篩分 → 低級鈰系稀土拋光粉產品。

主要設備有 : 溶解槽,沉淀槽,過濾機,煅燒爐,粉碎機,細磨篩分機。

主要指標 : 產品中 w(REO)=85% ~ 90% , w(CeO2)=48% ~ 50%; 稀土回收率約 95%; 平均粒徑 0.5微米~ 1.5微米 。

目前,國內生產的低級鈰系稀土拋光粉的量**多,約占總產量的 90% 以上。

公司主營產品稀土拋光粉,以其拋光效率高、使用壽命長、適用范圍廣的優異性,成為當今********的精密拋光材料之一。在此歡迎廣大新老客戶前來洽談業務。

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